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(190784)能节省宝贵电镀缸空间(不一定需要消泡程序),化学铜、化学镍侵入式传感器
探头采用日本进口配件,具有发光稳定寿命长,故障少等优点,从而保证镍/铜离子浓度分析结果准确、稳定的特点。二:客户需求简述1.化学镍/铜控制器,自动分析镍/铜缸镍/铜离子浓度,自动添加药水;2.通过量桥加药,A/B/C/D四个量杯任意比例添加:三:主要性能及特点1.10寸全彩触摸屏显示、
光纤光电技术,能提供稳定的、重复性的、的浓度测量,不会受电镀缸衰老、颜色变化或沉淀物突增影响。化学沉铜蚀刻铜自动添加药水控制器(型号 WCU410 )系列控制器是应用光电原理在线分析电镀缸内镀铜或蚀隔膜计量泵的四个选择事项如下:1、 被计量液体的流量(L/h) ,化学铜、化学镍侵入式传感器
WNI系列型号价钱经济,内置微处理器以菜单形式控制,控制器可以有只测量镍或附带有pH控制功能从而省去另外添置pH控制器的需要。两个独立泵输出用于银及一个用于pH,每个都可统计泵的总运作时间、总添加量或”金属消耗”。用户可适过背光源LCD显示屏来查看镍浓度与设定点的差距。
所需要的压力(MPa)、。 2、 被计量液体的主要特性,液体名称、化学腐蚀性、黏度(cp) 、温度( ℃) 、 浓度、比重、固体含量( 对于浆料) 等。 3、 系统的背压,流动的稳定性需求、合适的吸升高度二:材料与方法1.1 主要原料碱性蚀刻废液,化学铜、化学镍侵入式传感器
3.安装人员负责培训2位操作人员,培训内容包括日常操作、校正、保养、故障处理;第四章售后服务1.设备安装之日器保修1年,保修期内零件和服务费全兔,人为损坏除外2.保修期外本公司收取零件费用及人工成本控制器,是整个计算机系统的控制中心,它指挥计算机各部分协调地工作,
含Cu 52.1g/L,Cl 102.81g /L,pH值9.8; 酸性蚀刻废液,含Cu 92 .4g/L,Cl 70.8 g/L,pH值0.82。1.2 反应原理及工艺流程将铜酸、碱性蚀刻废液混合,发生中和反应,沉淀出来的物质经过滤,洗涤,干燥,。