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酸性氯化铜蚀刻液适用于生产多层板内层,掩蔽法印制板和单面印制板,采用的抗蚀剂是网印抗蚀印料、干膜、液体感光抗蚀剂,也适用于图形电镀金抗蚀印制电路板的蚀刻。
A, 蚀刻速率易控制,B, 蚀刻液在稳定的状态下,C, 能达到高的蚀刻质量。
D, 溶铜量大。E, 蚀刻液容易再生与回收,F, 减少污染。
1、 化学组成:
化学组分 1 2 3 4 5
Cucl2.2H2O 130-190g/l 200g/l 150-450g/l 140-160g/l 145-180g/l
HCL 150-180ml/l 100ml/l 7-8g/l 120-160g/l
NaCL 100g/l
NH4CL 饱和平共处 160g/l
H2O 添加到1升 添加到1升 添加到1升 添加到1升 添加到1升
2、 蚀刻原理
在蚀刻过程中,氯化铜中的二价铜具有氧化性,能将印制电路板面上的铜氧化成一价铜,其化学反应如下:
蚀刻反应:CU+CUCL2→CU2CL2
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